透明O圈
在O2，Fluorine等离子体环境中有很高的抵抗性和优秀的机械特性
耐高温O圈
耐高温达300℃，通常被用于CVD，ETCH工序中
抗压O圈
可以在300℃的高温下使用，特别在Diffusion，Metal工艺中效果突出
耐等离子O圈
卓越的等离子体耐性，产生最少的粉尘
耐化学性O圈
ETCH,CVD 等工艺在半导体等离子体环境中使用
耐化学性O圈
电磁波障碍部位使用
切断流体和电子物质的接触
抗压O圈
抗多种化学物质，具有良好的机械特性和永久压缩复原率防止Spiral的损伤
抗凝结O圈
不含出振剂，降低工程出现的分区制，低金属离子含量、高热和化学稳定性
